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「位相差/透過率測定装置 MPM193EX」および「ArFマスクレビューステーション MRS193EX」を同時発表
2008年02月19日
この度レーザーテック株式会社は、「位相差/透過率測定装置 MPM193EX」および「ArF マスクレビューステーション MRS193EX」を同時発表致します。
位相差/透過率測定装置 MPM193EX
新製品の特長
- 業界標準機となったMPM193位相差測定装置の後継機として、測定性能を大幅に向上させました
- ペリクル付きマスクの測定が可能です
- 従来モデルと比べ自動検査機能が大きく改善されています
- 1μm以下の微小領域での位相差測定を可能としました
- オートローダーおよびケミカルフィルター付きミニエンバイロメントを標準装備します
- MRS193EXと共通のプラットフォームであり、オプションとしてマスク欠陥レビュー機能を付加できます
用途
- 位相シフトマスクの位相差測定
- ハーフトーン型位相シフトマスクの透過率測定
- マスク欠陥レビュー（オプション）
構成
本体、制御部、コンピュータ部
ArFマスクレビューステーション MRS193EX
新製品の特長
- フォトマスク製造における欠陥検査後の欠陥観察に最適なマスク欠陥レビュー装置です
- 短波長化により更なる高解像を実現し、100nm未満のマスクパターン・欠陥のレビューに威力を発揮します
- ペリクルを付けたままのマスクを観察できます
- 高精度ステージを採用し、欠陥検査装置からの座標データで欠陥を簡単に観察できます
- 視野内の欠陥部分を自動的に検出しハイライト表示することが出来ます
- MPM193EXと共通なプラットフォームであり、オプションとして位相シフトマスクの位相差・透過率測定機能を付加できます
- AFMをオプションとして内蔵することにより、3次元計測が可能となります
- 欠陥転写シミュレーションソフトウェアとの連携が可能です（オプション）
用途
- 欠陥検査後のマスク欠陥レビュー
- 欠陥のサイズ測定
- 異物（洗浄可）とパターン欠陥（修正要）の判定支援
- 位相差・透過率測定（オプション）
構成
本体、制御部、コンピュータ部