この度レーザーテックは、大型フォトマスク用基板の欠陥を高速で検査、
レビューする装置「LB79」を発表致します。
*LB： Large Size Photomask Blanks/Substrate
説明
レーザーテックは、第10世代の液晶パネル生産に不可欠な大型フォトマスクの製造に用いられる基板の欠陥検査装置を開発、製品化いたしました。大型フォトマスクには無欠陥が求められるため、その材料であるマスクブランクス、石英基板に対しても厳しい品質管理が要求されています。LCDパネルは等倍露光により生産されるため、生産性向上の観点からマザーガラス大型化に伴い、マスクサイズも大型化しています。更に露光プロセス短縮のためフォトマスクのマルチトーン化技術の開発も進み、大型マスク製造工程における歩留り向上、品質保証が重要な課題となってきています。
LB79は大型基板を高速検査し、欠陥位置分布とレビュー像の取得を正確かつ迅速に行えます。異物だけでなく、これまでは困難だったプロセス欠陥や材料起因の欠陥を検出、レビューすることにより信頼性の高い検査を実現しています。
LB79を精密研磨、洗浄プロセスの評価に活用する事で、問題点発見やプロセスの最適化を早い段階で行えます。また、出荷検査を行うことで不良品の次工程への流出を防止、マスクの製品歩留り向上に繋がります。
本装置は大型基板の開発段階から品質管理、さらにはマスクメーカーでの基板の受入検査での活用まで想定しており、LB79での検査結果は業界標準である大型マスク検査装置によるマスク検査結果との比較照合による欠陥管理が可能です。当社大型マスク基板検査装置と大型マスク検査装置を併用し、大型マスクの製造工程を材料段階から製品段階まで総合的に評価することで品質と歩留りの改善に貢献します。
新製品の特長
- 微分干渉光学系を持ち、nmオーダーの凹凸も検出可能
(欠陥横寸法は1.0μm以上) - レーザー散乱検出系を持ち、異物感度が高い(1.0μm)
- 微分干渉、後方散乱、前方散乱の各センサーの入力信号強度により欠陥種別の判定を行う
- 2基の検査ヘッドを搭載してガラス基板の表裏同時検査が可能(裏側検査ヘッドはオプション)
- 2.0x2.0mのサイズに対応し、2008年秋から量産開始される第10世代液晶パネル用大型フォトマスク基板の検査にいち早く対応
- 基板を縦に固定、ヘッド移動方式採用でコンパクトなフットプリント
- 検査からレビューまで一貫して行い、扱いやすく充実したソフトウェアを装備
用途
1)ガラス基板の精密研磨•洗浄後の品質管理
2)研磨、洗浄プロセス、成膜前後の評価
3)大型フォトマスクブランクスの成膜後の欠陥検査、欠陥レビュー
