従来機から検査性能を一新 高精細FPDフォトマスク製造の歩留り改善に貢献

特長

  • ハイパワーレーザー散乱光学系の採用により、高感度化・高スループット化を実現
  • 反射微分干渉/透過光学系による高倍率欠陥レビューが可能
  • 新開発のソフトウェアにより自動欠陥レビューを行い、欠陥種・サイズの同時分類処理が可能
  • G8/G10サイズまで対応可能
  • 各種アシストアームへの対応が可能

用途


  • Qzサブストレートの出荷・受入検査・レビュー(洗浄後・研磨後)

  • クロムまたは酸化クロム成膜後の欠陥検査・レビュー

  • レジストコート後の欠陥検査・レビュー

仕様

検出感度 0.3μm(Qz上PSL)
検査時間 20分(G8サイズ)
レビュー方式 反射微分干渉/透過(同時レビュー)

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