ラインワイズラフネス / LWR

  • Line Width Roughness
  • レジストの線幅が凸凹にずれる現象
  • LERと密接に関連しているが、例えばゲートなどの場合は、トランジスタ性能に大きく影響する

ラインエッジラフネス / LER

  • Line Edge Roughness
  • レジストのエッジが直線から凸凹にずれる現象

リソグラフィー / Lithography

光や電子などを使用して、電子回路パターン等をウェハ等に転写する技術

リン / Phosphorous

  • 原子番号15の元素
  • 元素記号はP(リン)

レーザー / Laser

  • Light Amplification by Stimulated Emission of Radiation
  • 励起された原子・分子の誘導放射によって発生し、増幅された光
  • 一般のランプに比べて、干渉性と単色性が極めて高い

レジスト / Resist

  • フォトマスク上の回路パターンをウェハ上に転写させる際に用いられる感光性材料
  • 露光前にウェハ上に塗布し、露光後に現像によってパターン化させる
  • ネガとポジのふたつのタイプがある

レチクル / Reticle

  • 主にステッパーで使用するフォトマスクをレチクルという
  • 原版を意味するレチクルと呼ばれる背景としては、縮小投影露光を行うステッパーが出現する以前、レチクルはウェハ露光には直接用いず、レチクルからマスクを作成し、そのマスクでウェハ露光していたからである

レチクルスミフポット / RSP

  • Reticle SMIF Pod
  • フォトマスク用のSMIF保管ケース

レベンソン / Levenson

  • 位相シフトマスク(Alternating Phase Shift Mask)の一種
  • フォトマスクに光の位相差を発生させる透明膜を付けたり、フォトマスクのガラスをエッチングして位相差を発生させるタイプの位相シフトマスク
  • 遮光膜にクロムを用い、位相シフター(位相差を発生させる部分)はガラスをエッチングするタイプが一般的に使用されている
  • 名称の由来は発明者の名前(Marc David Levenson氏)であるが、同時期に日本人の渋谷氏も発明しており、渋谷レベンソンマスクと呼ぶ場合もある