3次元積層デバイス / 3-D Stacking Device

半導体チップを積み重ねることによって、高集積化・高機能化を実現するデバイスのこと。一つのチップ内でトランジスタを積層構造にしたデバイスのことを指すこともある

シーアイエス / CIS

銅、インジウム、セレンの化合物を材料とする半導体物質で、太陽電池等に使用される。発電効率や耐劣化性が高く、製造コストも抑えることができているため、近年、大きな注目を集めている材料である

シーアイジーエス / CIGS

銅、インジウム、ガリウム、セレンの化合物を材料とする半導体物質で、太陽電池等に使用される。発電効率や耐劣化性が高く、製造コストも抑えることができているため、近年、大きな注目を集めている材料である

ジェイエスシー / Jsc

短絡電流密度のこと

シーエムピー / CMP

  • Chemical Mechanical Polishing
  • ウェハ表面の平坦化(Planarization)技術

色素増感太陽電池 / DSSC

  • Dye Sensitized Solar Cell
  • 光を吸収する色素と、イオンが移動する電解質によって構成される太陽電池

シーシーディー / CCD

  • Charge Coupled Device
  • 光を電気信号に変換する受光素子

シースルー型太陽電池 / See-through Type Solar Cell

薄膜シリコン太陽電池の一部をレーザで加工して膜全体の10%くらいを取り除くことによりシースルーにする

次世代リソグラフィー(エヌジーエル) / NGL

  • Next Generation Lithography
  • 次世代のリソグラフィー

G線 / G line

水銀ランプにおける波長436nmのスペクトル

実装 / Implementation

ハードウエアやソフトウェアに新しい機能や仕様、部品などを組み込むこと。また、実際にその機能を組み込む際の手法も意味する

シーティー / CT

  • Computed Tomography
  • コンピュータートモグラフィーとは、1次元のイメージをコンピューターで処理して2次元及び3次元の断層画像を推定する非破壊評価技術のことである

シーディー / CD

  • Critical Dimension = Line Width
  • パターンの線幅(微小寸法)

シーディーセム / CD-SEM

走査型電子顕微鏡

CdTe太陽電池 / CdTe Solar Cell

カドミウムテルル(CdTe)太陽電池

自動欠陥分類 / ADC

  • Automatic Defect Classification
  • 検査装置が自動的に欠陥を分類する機能

シーピーエル / CPL

  • Chromeless Phase Lithography
  • Alternating PSMの一種
  • 遮光膜のクロムが無いタイプの位相シフトマスクを用いたリソグラフィー

シーモスイメージセンサ / CMOS Image Sensor

  • Complementary Metal Oxide Semiconductor Image Sensor
  • CMOS(相補性金属酸化膜半導体)を用いた固体撮像センサーのこと

焦点深度 / DOF

  • Depth Of Focus
  • 顕微鏡で試料表面を観察した時、鮮明な画像が得られる光軸方向の範囲
  • 共焦点(コンフォーカル)顕微鏡の焦点深度は、開口数0.95の時に約0.3umと浅くなる特徴がある
  • 共焦点(コンフォーカル)顕微鏡は、この焦点深度の浅さを利用して高精度な深さ(または高さ)方向の測定を実現している

シリコン / Silicon

地球上では酸素に次いで二番目に多く存在する元素。日本語では珪素(ケイソ)とも呼ばれる

少数キャリア拡散長 / Minority Carrier Diffusion Length

半導体における少数キャリアが再結合して消滅するまでに進むことができる距離

スキャナー / Scanner

  • レチクル(フォトマスク)とウェハ両方のステージを動かしながら露光する露光方式を用いた露光装置
  • レチクルパターンを1回露光し終わると、ウェハステージがステップするため、テップ&スキャンと呼ばれることもある
  • レチクルのパターンを4分の1に縮小して、ウェハとは反対方向に同期させながらスキャンするのが一般的である

スタッキングフォルト / SF

結晶欠陥の一種である積層欠陥の略称。積層欠陥は、デバイス形成時に接合リーク特性などに影響する

スティッチングエラー / Stitching error

EB描画時のショット間及びフィールド間のつなぎ誤差

ステッパー / Stepper

  • 電子回路を形成する基板(ウェハ等)にフォトマスクを転写(露光)するための露光装置であり、ステップ&リピートによる露光方式を用いた装置
  • フォトマスクのパターンを5分の1または4分の1に縮小して露光するのが主流であるが、他の縮小倍率もある

ストレスライナー膜 / Stress Liner Film

トランジスタゲート周辺に局所的なひずみをつくる目的で、ウエハ上に作る膜のこと。 トランジスタ特性を改善するために用いられる

スパッタリング / Sputtering

アルゴンイオンをターゲットと呼ばれる金属のインゴットにぶつけて、金属電子をはじき出して、ウェハ上に成膜すること

スミフ / SMIF

  • Standard Mechanical InterFace
  • フォトマスクやウェハの保管ケース
  • “SMIF”はAsyst Technologies, Inc.社の登録商標

http://www.asyst.co.jp/index.html

成長性異物 ヘイズ / Haze

フォトマスク上の回路パターンをウェハに転写するときに使用されるリソグラフィ光源には、半導体デバイスの微細化に伴い、波長の短いKrFまたはArFレーザーが多く用いられている。特に先端デバイスで使われるArFレーザーの照射光エネルギーは高く、フォトマスク表面周辺のガス状物質の化学反応を誘発し、フォトマスク上にヘイズ(Haze)と呼ばれる固体状の成長性異物を生成する

石英 / QZ

  • Quartz
  • フォトマスクのガラス基板の材料(石英ガラス)

赤外光 / Infrared Light

赤い色の光よりも波長が長く(700nm~)、電波よりも波長が短い電磁波のこと

セル比較検査 / Cell Shift

  • セルシフト検査
  • 隣接するパターン(セル:繰り返しパターン)同士を比較して欠陥を検出する方法

全焦点画像 / Omnifocal Image

試料台(Zステージ)を用いて試料を焦点方向に動かしながら画像情報を取得し、受光素子の各画素の最大輝度を蓄積することで得られる、全体的に焦点が合った画像

走査型レーザー顕微鏡 / Scanning Laser Microscope

通常の光学式顕微鏡ではサンプルを一様な光で照明し、サンプルの像を対物レンズで拡大し、接眼レンズを用いて観察者の目で直接とらえる
一方、走査型レーザー顕微鏡では光源からのレーザービームを対物レンズでビームの波長と同程度の大きさのビームスポットに絞込み、このビームスポットをサンプル面上に2次元スキャンし、サンプル面からの反射光を光検出器で検出する
この時系列化された検出器出力をビームの2次元スキャンに同期してサンプリングし、2次元的に並べ直すことにより画像化している

走査電子顕微鏡 / SEM(セム)

  • Scanning Electron Microscope
  • 電子ビームを用いた顕微鏡

素子 / Device

半導体素子とは半導体の電気伝導の電子工学的な特性を利用した固体能動素子で、具体的には個別トランジスタや集積回路(IC)などがあげられる

ソーラシュミレーター / Solar Simulator

  • 擬似太陽光
  • キセノンランプなどの光源で作った擬似的な太陽光のこと