EUVマスクブランクス上の転写性位相欠陥の検出および欠陥管理

特長

  • Actinic inspection (λ=13.5nmのEUV光源を採用)
  • Mo/Si多層膜内部の転写性位相欠陥を高感度に検出
  • 暗視野光学系による、高感度かつ高速な検査
  • 高倍率のレビューによる高精度欠陥座標取得
  • 明視野/暗視野レビューによる欠陥解析

用途


  • EUVマスクブランクス(Mo/Si多層膜)の検査

  • EUVマスクブランクスの欠陥解析

  • 欠陥の高精度位置検出

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