EUVマスクブランクス欠陥検査/レビュー装置
ABICS E120
EUVマスクブランクス上の転写性位相欠陥の検出および欠陥管理
関連ニュース
日刊工業新聞社主催 2017年十大新製品賞「日本力賞」受賞
電子デバイス産業新聞主催 半導体・オブ・ザ・イヤー2018
半導体製造装置部門 「グランプリ」を受賞
特長
- Actinic inspection (λ=13.5nmのEUV光源を採用）
- Mo/Si多層膜内部の転写性位相欠陥を高感度に検出
- 暗視野光学系による、高感度かつ高速な検査
- 高倍率のレビューによる高精度欠陥座標取得
- 明視野/暗視野レビューによる欠陥解析
用途
- EUVマスクブランクス(Mo/Si多層膜)の検査
- EUVマスクブランクスの欠陥解析
- 欠陥の高精度位置検出
