設計ルール10nm以降の最先端半導体フォトマスク用マスクブランクス欠陥検査/レビュー装置

特長

  • 次世代高品質マスクブランクス検査に有効な高検出感度と、量産工場での出荷・受入検査に適した高スループットを両立した最新鋭欠陥検査装置
  • 既にマスクブランクス検査の業界標準機となっているMAGICSの基幹技術であるコンフォーカル光学系を採用した31本のマルチビームスキャン方式をベースに、微小欠陥に特化した欠陥検出回路を搭載
  • Qzサブストレートのみならず、最先端のMoSiバイナリーマスクや位相シフトマスク各層の欠陥検出感度を飛躍的に向上させ、より高品質なブランクスの選別が可能
  • カセットは、ブランクスメーカー向け多段カセットから、マスクショップ向けRSP、MRP、及びEUVL向けDual podまで対応が可能
  • M8351は、ライン & スペースのモニターパターン検査に対応した製品で、マスクショップでの各種プロセス管理に有効

用途


  • Qzサブストレート、Cr膜、MoSi膜、ハーフトーン膜、EUVマスクブランク(マルチレイヤー層、アブゾーバー層)、レジスト塗布済みマスクブランクスの欠陥検査
  • 欠陥レビュー

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