ウェハ外周部の歩留定量管理とプロセス異常の解析用途に

特長

  • コンフォーカル光学系による高コントラスト画像を用いた欠陥検査
  • 独自のアルゴリズムによる凹凸判定を含めた自動欠陥分類
  • 欠陥種の特定・推測が容易となる、高解像度3D測定機能

用途


  • インラインQCによるウェハ外周部の定量管理及び異常プロセス発生時の早期アラーム

  • SPC(Statistical Process Control)によるウェハ外周部の不良チップ発生時の後追い解析

  • ウェハ外周部の欠陥による、歩留まり悪化原因の把握・解析

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