当社は、2018年9月19日にアメリカ、カルフォルニア州モントレーで行われたBACUS 2018において、アクテニック（13.5nmの波長を使用する）パターン付EUVマスク検査装置の開発に関する発表を行いました。

BACUS は、SPIE(国際光工学会）に属するフォトマスク技術およびEUVリソグラフィーに関する国際学会です。