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当社技術五部 宮井博基および渡辺秀弘が、SPIE photomask conferenceで「BACUS賞」を受賞

2018年09月21日

当社 技術五部部長 宮井博基および技術五部シニアエンジニア 渡辺秀弘(前職EIDEC先端マスク研究部長)が、アクテニック(13.5nm波長を用いた)EUVマスクブランクス検査システムの構想、開発、商品化を通じて、マスク製作技術に多大なる影響を与え、マスク業界に貢献したことから、SPIE(国際光工学会)より「BACUS」を受賞しました。