レーザー顕微鏡

レーザーマイクロスコープ
OPTELICS® HYBRID

6つの機能を1台で高度な連携であらゆる観察・測定領域を網羅

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OPTELICS 特設サイト

超高温観察レーザー顕微鏡システム
VL2000DX-SVF17SP

本装置は株式会社米倉製作所が販売しております。弊社は、超高温観察レーザー顕微鏡システムのカメラヘッドをOEM供給しております。

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エネルギー・環境関連装置

SiCウェハ欠陥検査/レビュー装置
SICA88

表面検査およびフォトルミネッセンス(PL)検査の両方を備えた検査装置

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GaNウェハ欠陥検査/レビュー装置
GALOISシリーズ

GaNウェハの各種欠陥をより高速に検出し、高い解像度で欠陥の観察が可能

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塗工ムラスキャニングシステム
TSS20

リチウムイオン電池の電極シートの塗工工程管理、品質向上に最適な検査機

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電気化学反応可視化コンフォーカルシステム
ECCS B320

リチウムイオン電池の充放電中の電気化学反応をIn-situで可視化/定量化

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半導体関連装置

ウェハエッジ検査装置
EZ300

ウェハ外周部の歩留定量管理とプロセス異常の解析用途に

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ウェハバンプ検査測定装置
BIM300

バンプの高精度3D形状測定、ウェハ外周部の品質管理に

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TSV裏面研磨プロセス測定装置
BGM300

TSV裏面研磨プロセスでのSi厚さ、TSV深さ、Remaining Si厚さ測定装置

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多波長ウェハ検査装置
LXシリーズ

多波長を用いた膜厚・エッチングばらつき・CDの全面高速検査

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ウェハ欠陥検査/レビュー装置
MAGICSシリーズ M5640

次世代プロセスに求められる微小欠陥検出を実現した高感度欠陥検査レビュー装置

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マスク欠陥検査装置
MATRICS X8ULTRAシリーズ

デザインノード7nm/5nmに対応可能なEUVマスク用の半導体マスク検査装置

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マスク欠陥検査装置
MATRICS X810EXシリーズ

デザインノード20nm~10nm以降に対応できる半導体マスク検査装置

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マスク欠陥検査装置
MATRICS X810シリーズ

20nmノード以降の半導体デバイス用フォトマスク欠陥検査装置

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フォトマスク欠陥検査装置
MATRICS X700HiTシリーズ

28nmノード以降の半導体デバイス用フォトマスク欠陥検査装置

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EUVマスクブランクス欠陥検査/レビュー装置
ABICS E120

EUVマスクブランクス上の転写性位相欠陥の検出および欠陥管理

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EUVマスク裏面検査/クリーニング装置
BASICシリーズ

EUVマスク裏面の異物検出・高さ測定・クリーニング機能を1台に統合

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マスクブランクス欠陥検査/レビュー装置
MAGICSシリーズM9650/M9651

設計ルール5nm以降の最先端半導体マスク用ブランクス欠陥検査/レビュー装置

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マスクブランクス欠陥検査/レビュー装置
MAGICSシリーズM8650/M8651

設計ルール7nm以降の最先端半導体フォトマスク用マスクブランクス欠陥検査/レビュー装置

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マスクブランクス欠陥検査/レビュー装置
MAGICSシリーズ M8350/M8351

設計ルール10nm以降の最先端半導体フォトマスク用マスクブランクス欠陥検査/レビュー装置

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マスクブランクス欠陥検査/レビュー装置
MAGICSシリーズ M6640S/M6641S

高感度・高スループットを両立したマスクブランクス欠陥検査/レビュー装置

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位相差/透過率測定装置
MPM193EX

フォトマスクの洗浄・ペリクル貼り付け後に位相差・透過率測定が可能に

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位相シフト量測定装置
MPM248

業界標準機のKrF用位相シフト量測定装置

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CLIOS用ペリクル検査・貼り付けシステム

FPD関連装置

FPDフォトマスク欠陥検査装置
CLIOS G10シリーズ

第10.5世代対応大型フォトマスクを高速/高感度で欠陥検査が可能

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FPDフォトマスク欠陥検査装置
CLIOS G8シリーズ

微細化の進むFPDフォトマスクを高感度で検査

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CLIOS用ペリクル検査/貼り付けシステム
71PA CM

第10.5世代用CLIOSとの連結でペリクルの異物検査から貼り付けまで自動処理

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CLIOS用ペリクル検査/貼り付けシステム
51PA CM

大型フォトマスクパターン欠陥検査装置とインラインで連結しペリクルの異物検査から貼付けまで自動処理

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FPDマスクブランクス欠陥検査装置
LBIS Series L852/L1052

従来機から検査性能を一新
高精細FPDフォトマスク製造の歩留り改善に貢献

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位相差測定装置
MPM365gh

g,h,i線の3波長の位相差・透過率測定が可能に

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