特長

• High NAリソグラフィ用EUVマスクの欠陥検査に対応
• 現行NAリソグラフィ用EUVマスクの欠陥検査に対応
• 高効率光学設計と「URASHIMA」光源の採用により高い生産性を実現

用途

• EUVマスク製造工程における欠陥検査
• ウェハファブにおけるEUVマスクの受入検査および定期的な品質確認検査

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