マスクエッジ検査装置
MZ100
EUVおよびDUVフォトマスクに対応するマスクエッジ検査装置
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特長
- 先端半導体向けEUVおよびDUVフォトマスクへ対応
- コンフォーカル光学系を用いた高感度検査、高精度の測定が可能
- フォトマスクのエッジ部（サイド面、ベベル）に対応
用途
- EUVおよびDUVフォトマスクのエッジ部欠陥検査
- 欠陥レビュー
- 欠陥サイズ、高さ測定
- 各種プロセス変動のモニター
仕様
| 検査領域とスキャン方法 | フォトマスク中央146 x 146mm2以外の全ての領域を検査可能。※下図参照 |
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