製品

新製品 アクティニックEUVパターンマスク欠陥検査装置 ACTIS「A150」を発表

2019年09月12日

世界初 EUVパターンマスク欠陥検査装置

この度レーザーテックは、EUVマスクのパターン検査に対応した欠陥検査装置ACTIS「A150」を製品化いたしました。同装置は9月15日から米国で開催されるフォトマスク技術に関する国際学会であるSPIE Photomask Technology + EUV Lithography 2019 にて発表いたします。

説明

レーザーテックは、1976年に世界初の自動フォトマスク欠陥検査装置を開発し、マスク検査の分野で長い歴史と経験を持つ会社です。現在販売中のマスク欠陥検査装置MATRICSシリーズは、その優れた欠陥検出性能により、全世界のウェハファブやマスクショップにてご好評いただいております。

一方、デバイスパターンの微細化に伴い、次世代露光技術であるEUVリソグラフィによる量産が開始され、当社はEUVマスクへのあらゆるご要求に対応するため、2013年にEUVマスク裏面検査/クリーニング装置「BASICシリーズ」、2017年にEUVマスクブランクス欠陥検査/レビュー装置ABICS「E120」、そして2018年にEUVマスク欠陥検査装置MATRICS「X8ULTRAシリーズ」を製品化いたしました。

EUV光を用いたアクティニックパターン検査装置はこれまで製品化されておらず、ウェハの歩留り向上に必要なEUVマスク製造インフラ構築上の課題となっていました。今般当社がその製品化に成功したことによってこの課題が克服され、EUVリソグラフィの量産適用に必要な装置が出揃うことになります。

新たに開発したEUVマスク欠陥検査装置ACTIS「A150」は、長年培ったマスクパターン検査技術とEUV光による検査技術を利用した世界初のEUVパターンマスク欠陥検査装置です。波長の短いEUV光を用いた検査方式を採用しているため、従来のDUVレーザーを用いたマスク検査機に比べ圧倒的に欠陥検出感度が高く、さらにEUVマスク特有の転写性位相欠陥の検出も可能です。

今後も、EUVリソグラフィを用いて量産する最先端半導体メーカーのご要望にお応えし、EUVリソグラフィ全般にわたる検査装置ラインナップを揃え、業界発展のために貢献してまいります。

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