このたび当社が開発した「高輝度EUVプラズマ光源 URASHIMA」が、一般社団法人レーザー学会より、レーザー学会産業賞「優秀賞」を受賞いたしました。

当社が開発したURASHIMA光源は、EUVフォトマスク検査に対応する高輝度EUVプラズマ光源であり、ペリクルの熱負荷抑制と安定した検査用照明の両立により、従来技術の課題を解決することに成功しました。さらに、URASHIMA光源を搭載したACTISシリーズは、EUV露光プロセスにおけるマスク欠陥の高感度・高精度検査を可能にし、世界的な半導体メーカーの製造現場で広く採用されています。

レーザー学会産業賞とは

レーザーに関する製品・技術の開発、実用化、普及などにおいて、国内のレーザー関連産業の発展に貢献した優れたものに対して授与される賞です。レーザー関連の産業技術として、技術および市場実績を重視した『優秀賞』、市場の開拓および将来性を重視した『奨励賞』および優れた基礎的技術または長年の累積的貢献を重視した『貢献賞』を贈呈されます。また、上記3賞に加えて、レーザー産業への貢献の期待の特に高いものに対して『選考委員特別賞』があります。