説明

レチクル（フォトマスク）とウェハ両方のステージを動かしながら露光する露光方式を用いた露光装置。レチクルパターンを1回露光し終わると、ウェハステージがステップするため、テップ＆スキャンと呼ばれることもある。レチクルのパターンを4分の1に縮小して、ウェハとは反対方向に同期させながらスキャンするのが一般的である。