説明

電子回路を形成する基板（ウェハ等）にフォトマスクを転写（露光）するための露光装置であり、ステップ＆リピートによる露光方式を用いた装置。フォトマスクのパターンを5分の1または4分の1に縮小して露光するのが主流であるが、他の縮小倍率もある