フォトマスク

【読み方】: ふぉとますく

【英語名】: Photomask

説明

フォトマスクとは、透明なガラス板の上に電子回路パターンの1層分を形成したもので、ウェハ上に電子回路パターンを形成させる際の原版となるものである。単に「マスク」、または「レチクル」とも言う。フォトマスクは、半導体デバイスの製造用だけでなく、FPDなどのフォトプロセスを用いる製品の製造に多く使用されている

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