説明

異物（ゴミ）がフォトマスクの回路パターン面へ直接付着するのを防ぐために使用する保護膜。パターン面から数mm離れた位置に配置されるため、ペリクル面に、ある程度までの大きさのパーティクルが付着しても、それはウェハ上に転写されない