説明
フォトマスク上の一部に、基板と屈折率や透過率の異なる物質を付加したり、あるいは基板の厚みを変えることで、その部分を通過する光の位相や強度を変えて、解像性を向上する機能を有するフォトマスク
フォトマスクの洗浄・ペリクル貼り付け後に位相差・透過率測定が可能に
業界標準機のKrF用位相シフト量測定装置
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