バイナリーマスク / BIM

  • Binary Intensity Mask
  • 位相シフトマスクではないマスクの総称
  • 一般的にはガラス基板上に遮光膜としてクロム膜が使用される

バーク / BARC

  • Bottom Anti-Reflective Coat
  • レジスト中での定在波効果を低減させるために基板とレジストとの間に塗布する膜

パッチワーク / Patch Work

顕微鏡を用いて、試料の位置を移動しながら画像を取得し、その画像データをつなぎ合わせて、広い領域の画像データを作成する機能

波長切り替え / Wavelength Selection

LasertecのMPシリーズにおいては、Xeアークランプを使用しているため所望のバンドパスフィルターを挿入することで波長を切り替えることが可能

Back Surface Field 層 / BSF

Back Surface Field 層とは高濃度ドープされた太陽電池セルの裏面のことである。この層は少数キャリアを跳ね返し、裏面での表面再結合を防ぐ役割をする

ハーフトーン / HT

  • Half Tone
  • 位相シフトマスクの一種
  • フォトマスクの遮光膜を半透明にして、位相差の効果を得るタイプの位相シフトマスク
  • 一般的に遮光膜としてMoSi(モリブデン・シリサイド)が使用されるが、クロムやシリコンの酸、窒化膜を使用するタイプもある

半導体 / Semiconductor

  • 電気を良く通す“導体”と電気を通さない“絶縁体”の中間の性質を持つ物質
  • または半導体材料を用いて作られる電子回路

光近接効果補正 / OPC

  • Optical Proximity Correction
  • 露光波長に比べて、ウェハ上に形成すべき回路パターンが小さくなると、フォトマスク上の回路パターン(マスクパターン)をウェハ上で同じ形状に形成することが困難になるため、予め変形を見越してマスクパターンに図形を付加したり、マスクパターンの疎密に応じてパターンサイズを補正することで、ウェハ上に所望の回路パターンを忠実に形成する技術

P-Vカーブ / P-V curve

横軸を電圧,縦軸を電力としたグラフ。Pmax及びVpmaxを知ることができる

光増感剤 / Photo Sensitizer

ある波長の光を吸収し、発生した電子やエネルギーを、他の物質に渡したり、化学反応を促進し、光に対する感度を増加させる物質

微結晶シリコン / Micro Crystalline

薄膜状態の微結晶シリコンは主に太陽電池に使用される。結晶とアモルファスシリコンの中間的な性質を持つ

ピーアイディー / PID

  • Process / Polish Induced Defects
  • プロセス起因の欠陥の略称。おもに、シリコンウェハの研磨(CMP)工程で出来る研磨起因の欠陥のことを指す

ピーシービー / PCB

  • Printed Circuit Board
  • プリント回路を形成した板、プリント基板のこと

ピーマックス / Pmax

太陽電池から取り出すことができる。最も高い出力のこと

表面電極 / Surface Electrode

電流を取り出すために太陽光をなるべく遮らない形で表面に形成する電極

ピンホール / Pin hole

遮光膜、レジスト膜などに存在する小孔

ブイオーシー / Voc

解放電圧のこと

フォトマスク / Photomask

  • フォトマスクとは、透明なガラス板の上に電子回路パターンの1層分を形成したもので、ウェハ上に電子回路パターンを形成させる際の原版となるものである
  • 単に“マスク”、または“レチクル”とも言う
  • フォトマスクは、半導体デバイスの製造用だけでなく、FPDなどのフォトプロセスを用いる製品の製造に多く使用されている

フォトレジスト / Photo Resist

光により化学反応(化学変化)を起こす材料。光が照射された後、現像によって光が照射された部分のみ残ったり、または逆に解けたりする。ウェハ上に薄く塗られ、エッチング、イオン注入のマスキング(保護)に使用される(加工だけではない)

フープ / FOUP

  • Front Opening Unified Pod
  • フォトマスクやウェハの保管ケース

プラズマCVD / Plasma CVD

プラズマ化学気相成長法の略 プラズマとなった原料ガスが、化学反応により基板上に堆積して薄膜が形成される

プラズマディスプレイ / PDP

  • Plasma Display Panel
  • 各画素ごとに制御されたプラズマ放電を行う方式のディスプレイ

フラーレン / Fullerene

炭素のみから構成されていてπ電子を有し、球形などの立体的な構造を示す物質

ブランクス(マスクブランク) / Mask Blank

  • フォトマスク作成用のガラス基板材料
  • MoSi層のような遮光膜でのみ覆われたガラス基板およびMoSi層の上層にレジスト膜を設けたガラス基板が共にマスクブランクである。

ヘリウムネオン / He-Ne

  • ヘリウムとネオンの混合ガスによるガスレーザー
  • 波長:632.8nm
  • 赤色レーザーであり、精密測距などに広く用いられている

ペリクル / Pellicle

  • 異物(ゴミ)がフォトマスクの回路パターン面へ直接付着するのを防ぐために使用する保護膜
  • パターン面から数mm離れた位置に配置されるため、ペリクル面に、ある程度までの大きさのパーティクルが付着しても、それはウェハ上に転写されない

変換効率 / Conversion Efficiency

太陽光が電気に変換される割合を示し、太陽電池から取り出された電力を光の強度で割ったもの

歩留まり / Yield

製造中あるいは完成までに良品の残っている割合

ポリシング / Polishing

ラップ用途粒より更に細かい粒子を加工液と混ぜたものを用い、定盤上には軟質あるいは粘弾性に富んだ研磨布を取り付け、ウェーハをこれに押し付けて高度の鏡面を得る方法

ボロン / Boron

  • 原子番号5の元素
  • 元素記号はB(ホウ素)