特長

• テクノロジーノード7nm/5nm/3nmのペリクル非装着EUVマスクおよびフォトマスクに対応できるマスク検査システム
• ピクセルサイズ45nm、ハイパワー213nmQCWレーザー(＞400mW)、および2種類の偏光照明により、異物検出性能が向上
• 初期状態のマスクパターンの全画像を保存し、ウェハ露光後のマスクパターンと比較して、マスク上の異物を検出するマスクtoマスク比較検査機能（MtM機能）を搭載
• EUVマスク用のDual Pod、フォトマスク用のRSP150、RSP200に対応可能
• OHT（Overhead Hoist Transport）と連動した全自動検査が可能
• ステージ系と電気ラック系を一体化した設計により、コンパクトなフットプリントを達成

用途

• ウエハファブにおけるペリクル非装着EUVマスクの品質確認検査およびフォトマスクの受入れ検査、定期的な品質確認検査
• EUVマスクの製造工程における微小異物検査、フォトマスクの出荷前検査

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