多彩なニーズに応える6つの機能

位相シフト干渉測定

単色光と二光束干渉レンズにより生じる干渉縞は、試料からの反射光の光路差分布に対応しており、光軸方向に精密にステップ移動した4つの干渉画像を位相解析することで、高さ分布を高分解能で求めます(高さ測定範囲は測定波長の半波長以内)。垂直式白色干渉機能と違い光軸方向の移動は、ステップ移動になるため測定時間が短く、数秒で測定が可能です。

下の画像のように8nm段差の標準片を測定することができ、また1nm~数nmの結晶成長の表面段差も測定が可能です。

試験片
SiC結晶の成長面(名古屋大学 未来材料・システム研究所 宇治原徹教授ご提供)
事例

ナノオーダーの傷や表面粗さ測定

ウェハの研磨プロセスでの研磨面の欠陥形状測定・評価に使用されています。

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共焦点システムソリューション部
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